出版者	東京 : エヌ・ティー・エス
出版年	2002.9
大きさ	v, 192, vp ; 27cm
内容注記	基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 / 大津元一 [執筆] フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 / 河田聡 [執筆] 自己組織化的手法による微細加工 / 益子信郎 [執筆] マイクロリキッドプロセスを用いたデバイスの創成と将来展望 / 下田達也 [執筆] 連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価 / 東博純 [執筆] 新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発 / 緒方寿幸 [執筆]
一般注記	(社)高分子学会主催のセミナー(2002年4月16日開催)を講演録として編集したもの 奥付の編集: エヌ・ティー・エス編集企画部 各章末: 参考文献 応用編は固有の標題をもつ別書誌<BA62862404>
著者標目	高分子学会 <コウブンシ ガッカイ>  大津, 元一(1950-) <オオツ, モトイチ>  河田, 聡 <カワタ, サトシ>  益子, 信郎 <マシコ, シンロウ>  下田, 達也 <シモダ, タツヤ> 東, 博純 緒方, 寿幸
件　名	NDLSH:オプトエレクトロニクス NDLSH:半導体
分　類	NDC9:549.8 NDC9:549.95 NDLC:ND371
本文言語	日本語
書誌ID	TB00110740
ISBN	4860430069
NCID	BA59010960
巻冊次	基礎編 ; ISBN:4860430069 ; PRICE:24000円+税